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光刻机原理

2026-02-05【资讯】

简介光刻机是芯片制造中的核心设备，主要用于将电路图案转移到硅片上。其工作原理基于光学投影和化学蚀刻技术。总结：光刻机通过光源（如极紫外...

光刻机是芯片制造中的核心设备，主要用于将电路图案转移到硅片上。其工作原理基于光学投影和化学蚀刻技术。

总结：

光刻机通过光源（如极紫外光）照射掩膜版，将电路图案投影到涂有光刻胶的硅片上，再通过显影和蚀刻工艺形成微小结构。

项目 内容说明
光源 极紫外光（EUV）或深紫外光（DUV）
掩膜版 含有电路图案的透明玻璃板
光刻胶 对光敏感的化学材料，用于记录图案
投影系统 将掩膜版图像缩小并清晰投射到硅片上
显影 去除被曝光或未被曝光的光刻胶
蚀刻 根据光刻胶保护层进行材料去除或沉积

光刻机的技术水平直接影响芯片的精度与性能。

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